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元素符號(hào)：Al

簡(jiǎn)介：鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機(jī)上，濺射成膜。用途

適用于直流二極濺射、三極濺射、四級(jí)濺射、射頻濺射、對(duì)向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等，相對(duì)其它靶材，鋁靶材的價(jià)格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。